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            电子超纯水
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            UPW-HiDB超纯水抛光除硼系统

            应用对象:集成电路与硅片产业对硼要求极高的超纯水处理系统

            关键技术:除硼树脂、抛光树脂、除硼阴床

            技术优势:

            1)硼选择树脂含有多羟基官能团,对于硼酸具有高选择性;

            2)双层床的设计及后置的TOC-UV解决除硼树脂TOC溶出的问题;

            3)产水B浓度 < 10 ppt,TOC < 2 ppb。


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